【财新网】
9月6日,荷兰政府发布有关浸润式 DUV光刻设备出口的最新许可证要求。该政策与美国的出口管制要求“对齐”,9月7日生效。同日,荷兰光刻机厂商ASML(阿斯麦)回应,“荷兰政府更新出口许可要求后,ASML将需要向荷兰政府而非美国政府申请 TWINSCAN NXT:1970i和1980i型号浸润式DUV光刻系统的出口许可证。之前,荷兰政府已经开始对更先进的TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统实施出口许可证要求。ASML EUV光刻系统的销售也受到出口许可证要求的限制。”